%0 Journal Article
%T High Temperature Characteristics of Ti/Al/Ni/Au Multilayer Ohmic Contact to n-GaN<br>n-GaN基Ti/Al/Ni/Au的欧姆接触高温特性
%A Zhang Yuezong
%A Feng Shiwei
%A Zhang Gongchang
%A Wang Chengdong
%A <br>张跃宗
%A 冯士维
%A 张弓长
%A 王承栋
%A 吕长志
%J 半导体学报
%D 2007
%I 
%X 研究了在高温工作环境下Ti/Al/Ni/Au(15nm/220nm/40nm/50nm)四层复合金属层与n-GaN的欧姆接触的高温工作特性.退火后样品在500℃高温下工作仍能显示出良好的欧姆接触特性;接触电阻率随测量温度的增加而增大,且增加幅度与掺杂浓度有密切关系.掺杂浓度越高,其接触电阻率随测量温度的升高而增加越缓慢;重掺杂样品的Ti/Al/Ni/Au-n-GaN欧姆接触具有更佳的高温可靠性;当样品被施加500℃,1h的热应力后,其接触电阻率表现出不可恢复性增加.
%K ohmic contact
%K specific contact resistivity
%K annealing
%K high temperature<br>欧姆接触
%K 接触电阻率
%K 退火
%K 高温
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=C05B606DE3664DAE220BE076778CD010&yid=A732AF04DDA03BB3&vid=D3E34374A0D77D7F&iid=B31275AF3241DB2D&sid=CEA1F7DC6B978724&eid=BB44F42BE8AE7430&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=1&reference_num=8