%0 Journal Article
%T Structural,Electrical,and Optical Properties of Transparent Conductive Al-Doped ZnO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering<br>RF磁控溅射制备AZO透明导电薄膜及其性能
%A Yang Weifeng
%A Liu Zhuguang
%A Zhang Feng
%A Huang Huolin
%A Wu Zhengyun
%A <br>杨伟锋
%A 刘著光
%A 张峰
%A 黄火林
%A 吴正云
%J 半导体学报
%D 2008
%I 
%X 室温下采用RF磁控溅射技术在石英衬底上制备了多晶ZnO: Al (AZO）透明导电薄膜，通过XRD,AFM,AES,Hall效应及透射光谱等测试研究了RF溅射功率、氩气压强对薄膜的结构、电学和光学性能的影响. 分析表明:在最优条件下（溅射功率为250W，氩气压强为1.2Pa时）, 180nm AZO薄膜的电阻率为2.68E-3 Ω· cm，可见光区平均透射率为90%，适合作为发光二极管和太阳能电池的透明电极. 所制备的AZO薄膜具有c轴择优取向，晶粒间界中的O原子吸附是限制薄膜电学性能的主要因素.
%K RF magnetron sputtering
%K transparent conductive film
%K AZO film<br>RF磁控溅射
%K 透明导电薄膜
%K AZO薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=BFE1A46A0F557FFD5222236B150B81DD&yid=67289AFF6305E306&vid=771469D9D58C34FF&iid=59906B3B2830C2C5&sid=B8044790BFEC0B0A&eid=78F86A6056590509&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=20