%0 Journal Article
%T Influences of Electrode Configuration on Deposition Process and Materials Properties of Silicon Thin Films<br>电极结构对硅薄膜生长过程及材料特性的影响
%A Hou Guofu
%A Guo Qunchao
%A Ren Huizhi
%A Zhang Xiaodan
%A Xue Junming
%A Zhao Ying
%A Geng Xinhua
%A <br>侯国付
%A 郭群超
%A 任慧志
%A 张晓丹
%A 薛俊明
%A 赵颖
%A 耿新华
%J 半导体学报
%D 2005
%I 
%X 在制备硅薄膜材料的PECVD系统中，分别采用普通平行板电极和网状电极，在相同的工艺条件下研究了电极结构对硅薄膜材料均匀性、电学性能以及微结构的影响．发现采用网状电极使薄膜（400～500nm）均匀性得到明显改善，在20cm×20cm内不均匀性从±12.6%下降到±2.1％．等离子体发光光谱的测试表明，网状电极可大大提高硅烷的利用率，因而在相同工艺条件下，生长微晶硅材料需要更高的功率密度．文中对实验结果进行了详细的讨论．
%K showerhead electrode
%K silicon films
%K uniformity
%K optical emission spectroscopy<br>网状电极
%K 硅薄膜
%K 均匀性
%K 等离子体的发光光谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=A75BB9E3FC556B2C&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=96C778EE049EE47D&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=FBB416F02256D8AA&eid=FD56DFE2BC7CF81F&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=13