%0 Journal Article
%T 微氮硅单晶热处理性质研究
%A 杨德仁
%A 姚鸿年
%A 阙端麟
%J 半导体学报
%D 1994
%I 
%X 实验对微氮硅单晶进行了不同温度、时间、时序的热处理研究，着重调查了硅晶体中氮杂质浓度在热处理时的变化．实验指出，热处理时氛浓度的下降取决于样品热历史，热处理温度及其它杂质的影响，实验发现微氮样品高温热处理时，氮浓度消失，低温再退火时氮浓度重新回升，以及碳杂质抑制氮浓度下降的新事实，并结合红外吸收光谱的研究，提出微氮硅单晶中存在稳定性不同的二种氧氮复合体的观点．
%K 硅单晶
%K 热处理
%K 氮
%K 性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=91D198DCB5BC3CB6&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=23CCDDCD68FFCC2F&iid=B31275AF3241DB2D&sid=EE23223CE4332BD7&eid=A53D7AA35F9929AF&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=4