%0 Journal Article
%T 染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性
%A 夏永伟
%A 李国花
%A 滕学公
%A 樊志军
%J 半导体学报
%D 1994
%I 
%X 用氯氟酸硝酸水溶液对硅单晶抛光片进行染色腐蚀，制备了多孔硅．本文研究染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性，特别是激发光强度和波长与发射光强度与波长的关系，多孔硅的稳定性和响应特性．
%K 多孔硅
%K 光致发光
%K 可见光
%K 染色腐蚀
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=9C7CF1DC06A68BCD&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=23CCDDCD68FFCC2F&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=8243B77967FFD12E&eid=AF14A8B15FB15A64&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=1&reference_num=0