%0 Journal Article
%T 微氮硅中热施主和浅热施主的低温远红外研究
%A 杨德仁
%A 阙端麟
%J 半导体学报
%D 1995
%I 
%X 利用低温（８Ｋ）远红外吸收技术，研究了硅单晶中氮杂质对热施主及浅热施主形成的影响，指出氮原子有抑制硅中热施主形成的能力，而微氮硅中的浅热施主和氧－氮复合体直接相关。
%K 微氮硅
%K 热施主
%K 浅热施主
%K 低温远红外
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=35A90D892F982B4E&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=7801E6FC5AE9020C&iid=5D311CA918CA9A03&sid=C7B13290323C226E&eid=44E78A5D1B37D836&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=1