%0 Journal Article
%T Si晶格常数超高精度传递测量中的标准晶体及制备
%A 高维滨
%J 半导体学报
%D 1991
%I 
%X 用XROI(X-Ray/Optics Interferometry)法测得高精度的Si(220)面间距,22.5℃为192015.902±0.019 fm.并发展了晶格常数超高精度测量传递方法.本文根据传递测量的原理及测量技术阐明了对标准晶体制备的要求.文中给出了我们的标准晶体的尺寸,一个样品晶体的测量曲线.
%K 硅晶格
%K 测量
%K 标准晶体
%K 制造
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=86580CE62F0AE184&yid=116CB34717B0B183&vid=59906B3B2830C2C5&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=8D75AD3BD0D1BCC5&eid=78976D931AD1540F&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0