%0 Journal Article
%T Characterization of ZnO Thin Film Preparation by Sol-Gel Spinning-Coating<br>溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜及表征
%A Ji Zhenguo
%A Song Yongliang
%A Yang Chengxing
%A Liu Kun
%A Wang Chao
%A Ye Zhizhen
%A <br>季振国
%A 宋永梁
%A 杨成兴
%A 刘坤
%A 王超
%A 叶志镇
%J 半导体学报
%D 2004
%I 
%X 采用溶胶-凝胶法在石英玻璃衬底上使用旋转涂覆技术生长了Zn O薄膜.对薄膜的XRD分析表明Zn O薄膜为纤锌矿结构并沿c轴取向生长.透射光谱表明薄膜的禁带宽度为3.2 8e V ,与Zn O体材料的禁带宽度3.30 e V基本相同.用光致发光谱分析了经过5 0 0～70 0℃热处理获得的Zn O薄膜,结果表明Zn O薄膜在室温下有较强的紫外带边发射,但当热处理温度高于70 0℃时,可见光波段发射明显增加
%K ZnO thin film
%K photoluminescence
%K sol-gel
%K spin coating<br>ZnO薄膜
%K 光致发光
%K 溶胶-凝胶法
%K 旋涂
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=94BCC2695C708C33&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=C5154311167311FE&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=286FB2D22CF8D013&eid=E514EE58E0E50ECF&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=12&reference_num=18