%0 Journal Article
%T HF缓冲溶液处理Si（111）表面的化学稳定性椭偏谱研究
%A 苏毅
%A 张秀珠
%A 陈良尧
%A 包宗明
%A 钱佑华
%A 薛自
%A 盛伯苓
%J 半导体学报
%D 1996
%I 
%X 首次采用椭偏光谱仪检测ＨＦ缓冲溶液（ＢＨＦ）处理的Ｓｉ（１１１）表面在空气中的化学稳定性．研究表明：随着Ｓｉ暴露在空气中时间的增长，Ｓｉ的赝介电常数虚部ε２的Ｅ２临界点峰值随之下降，而Ｅ１临界点峰值却随之上升；在ｐＨ＝５．３的ＢＨＦ中腐蚀，再经去离子水漂洗后，可得到较稳定的Ｓｉ（１１１）表面，在空气中一小时之内基本不氧化．
%K HF缓冲溶液
%K 硅（111）表面
%K 化学稳定性
%K 椭偏谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=BAFCE27C7E3992A6&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=BCA2697F357F2001&iid=38B194292C032A66&sid=334E2BB8B9A55ABB&eid=CC0ECB9C52F1B85F&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=1