%0 Journal Article %T 退火对CdZnTe晶体质量的影响 %A 朱基千 %A 褚君浩 %A 张小平 %A 李标 %A 程继健 %J 半导体学报 %D 1997 %I %X 我们用红外透射光谱和X射线双晶衍射等,研究了退火对CdZnTe晶体质量的影响.结果表明,在Cd气氛中,700℃,退火5小时以上,能大量地去除晶片中的Te沉淀,提高其红外透射比;同时,退火也导致了晶片表面的损伤,损伤层为50~130μm.表面结构损伤的原因是,(1)Cd气氛中退火,CdZnTe晶体表面的Zn损失;(2)退火过程中,吸附在沉淀物周围的杂质,尤其是快扩散杂质,将随着沉淀相的消失而迁移到晶体的表面,从而破坏了表面的晶体结构.退火后,磨去损伤层,可将聚集在表面的这些杂质除去,更有利于外延生长或器件制备. %K 化含物半导体 %K 晶体质量 %K 退火 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=FF2016BC8B114F1D&yid=5370399DC954B911&vid=13553B2D12F347E8&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=B75DC817262E20A8&eid=CFBDB06850C21CC6&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=5&reference_num=2