%0 Journal Article
%T 铁杂质对微氮硅中氧沉淀的影响
%A 张溪文
%A 杨德仁
%A 阙端麟
%J 半导体学报
%D 1998
%I 
%X 通过研究微氮掺铁硅单晶的氧沉淀行为，发现低温预处理有助于高温退火时的氧沉淀，且氮、铁杂质均对氧沉淀有明显促进作用．首次发现氮杂质部分抑制了铁对氧沉淀的促进作用．
%K 微氮硅
%K 氧沉淀
%K 铁杂质
%K 大规模集成电路
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=A2B51FC73DF67D2E&yid=8CAA3A429E3EA654&vid=2A8D03AD8076A2E3&iid=94C357A881DFC066&sid=B9B90065CF5CD7F0&eid=05340B75C67FF664&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=2