%0 Journal Article
%T 双异质外延Si/Al_2O_3/Si薄膜制作的CMOS器件
%A 昝育德
%A 王俊
%A 李瑞云
%A 韩秀峰
%A 王建华
%A 于芳
%A 刘忠立
%A 王玉田
%A 王占国
%A 林兰英
%J 半导体学报
%D 2004
%I 
%X 报道了利用高真空 MOCVD外延生长 γ氧化铝的技术和利用 SOS CMOS的成熟工艺制作双异质外延 Si/ γ-Al2 O3/ Si单晶薄膜以及用其研制 Si/ γ- Al2 O3/ Si CMOS场效应晶体管、Si/ γ- Al2 O3/ Si CMOS集成电路的初步结果
%K 外延
%K CMOS
%K SOS
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=61C2185D045FFAC2445BDD89D0E84D7F&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=C5154311167311FE&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=8A03DD854A27B60D&eid=CE16DE2ABCD4D365&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0