%0 Journal Article
%T Influence of High Temperature Treatment on the Performance of Nickel-Induced Laterally Crystallized Thin Film Transistors<br>高温处理对镍诱导晶化硅上的薄膜晶体管性能的影响(英文)
%A Qin Ming
%A Fan Lujia
%A Vincent Poon
%A C Y Yuen
%A <br>秦明
%A 樊路加
%A VincentPoon
%A C Y Yuen
%J 半导体学报
%D 2002
%I 
%X 采用标准双栅 CMOS工艺在镍诱导非晶硅横向晶化形成的多晶硅上制造了高性能的薄膜晶体管 ,并详细研究了器件制备前高温预处理对薄膜晶体管性能的影响 .实验发现不同的温度处理 ,将引起器件性能的显著变化 .在10 0 0℃预处理温度下获得了最好的器件性能 .10 0 0℃在 NMOS管中测得的电子迁移率达 314 cm2 / (V· s) ,分别比在 110 0℃和未做高温处理下的大 10 %和 2 2 % .10 0 0℃下器件的最大开关电流比也达到了 3× 10 8.对器件的进一步重复性研究证实了上述结果的可靠性
%K nickel
%K induced lateral crystallization
%K thin film transistor
%K high
%K temperature treatment<br>镍诱导横向晶化
%K 薄膜晶体管
%K 高温处理
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=B1DAA14293A6B7AE&yid=C3ACC247184A22C1&vid=EA389574707BDED3&iid=B31275AF3241DB2D&sid=F16C0F639D87527E&eid=39E48869A719B9DE&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=1&reference_num=0