%0 Journal Article %T Fe_2O_3-SnO_2双层薄膜对氨气敏感特性及其机理研究 %A 戴国瑞 %A 何秀丽 %A 王宗昌 %A 南金 %J 半导体学报 %D 1998 %I %X 本文报道了以Fe(CO)5和SnCl4为源,采用PECVD技术淀积Fe2O3-SnO2双层薄膜,将该薄膜淀积在陶瓷管上,对氨气的敏感特性进行了测量,并讨论了敏感机理. %K 半导体 %K 敏感器件 %K 传感器 %K 氨气 %K 敏感薄膜 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=FBEE9AD3C1449C4574143F2777F6885F&yid=8CAA3A429E3EA654&vid=2A8D03AD8076A2E3&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=04EA291949415E08&eid=8A6D8366EA57F0FF&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=2&reference_num=3