%0 Journal Article
%T Deposition and Characterization of AlN Thin Films on Silicon<br>硅基AlN薄膜制备技术与测试分析
%A Yu Yi
%A Ren Tianling
%A and Liu Litian
%A <br>于毅
%A 任天令
%A 刘理天
%J 半导体学报
%D 2005
%I 
%X 采用直流磁控反应溅射法，在Si(100)，Al/Si(100)和Pt/Ti/Si(100)等多种衬底上制备了用于MEMS器件的AlN薄膜．用XRD和AES对薄膜的结构和组分进行了分析，通过优化工艺参数，得到了提高薄膜择优取向的方法，并分析了不同衬底上AlN晶粒生长的有关机理．制备的AlN薄膜显示出良好的〈002〉择优取向性，摇摆曲线的半高宽达到5.6°．
%K AlN thin film
%K DC magnetron reactive sputtering
%K preferential orientation
%K FWHM<br>AlN薄膜
%K 直流磁控反应溅射
%K 择优取向
%K 半高宽
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=77DD71329A6ACFE3&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=96C778EE049EE47D&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=ECE8E54D6034F642&eid=94E7F66E6C42FA23&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=4&reference_num=6