%0 Journal Article
%T ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用
%A 茅冬生
%A 谭满清
%J 半导体学报
%D 1999
%I 
%X 电子回旋共振等离子体化学气相淀积（ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ）法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一．本文报道了ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ法淀积介质膜的工艺以及介质膜的特性等
%K 介质膜
%K 半导体光电器件
%K ECRPlasmaCVD
%K 应用
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=67D67F0FC3062222&yid=B914830F5B1D1078&vid=A04140E723CB732E&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=2C8B50BA95995EA2&eid=F7B726EE3ACCF328&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=1&reference_num=0