%0 Journal Article
%T Analytical Expression of Deposition Rate Distribution in LPCVD<br>LPCVD淀积速率分布的解析表达式
%A Wang Yongfa/Materials Science
%A <br>王永发
%A 张世理
%A 王季陶
%J 半导体学报
%D 1989
%I 
%X 通过引入轴向反应源转化率η(x)和径向反应源转化率η_f(ρ),分别导得了淀积速率在卧式反应器中沿轴向及径向分布的解析表达式.从中可以清楚地看出反应器几何参数以及工艺参数对淀积速率分布的影响.将其用于对多晶硅淀积的模拟,与实验结果相符很好.
%K Simulation
%K LPCVD<br>LPCVD
%K 化学
%K 气相淀积
%K 集成电路
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=AAE410A844FA7508&yid=1833A6AA51F779C1&vid=F3090AE9B60B7ED1&iid=5D311CA918CA9A03&sid=106103EB0EA31435&eid=1D5555D0B4345CA8&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=3