%0 Journal Article
%T Forward Gated-Diode Monitoring of F-N Stressing-Induced Interface Traps of NMOSFET/SOI<br>正向栅控二极管监测F- N电应力诱生的SOI- MOSFET界面陷阱(英文)
%A HE Jin
%A HUANG Ai-hua
%A ZHANG Xing
%A HUANG Ru
%A <br>何进黄
%A 爱华
%A 张兴
%A 黄如
%J 半导体学报
%D 2001
%I 
%X 报道了正向栅控二极管 R- G电流法表征 F- N电应力诱生的 SOI- MOSFET界面陷阱的实验及其结果 .通过体接触的方式实现了实验要求的 SOI- MOSFET栅控二极管结构 .对于逐渐上升的累积应力时间 ,测量的栅控二极管电流显示出明显增加的 R- G电流峰值 .根据 SRH理论的相关公式 ,抽取出来的诱生界面陷阱密度是随累积应力时间的上升而呈幂指数的方式增加 ,指数为 0 .4.这一实验结果与文献先前报道的基本一致
%K F-N effect
%K stressing-induced interface tra p density
%K R-G current
%K gated-diode
%K MOSFET/SOI<br>F-N应力效应
%K 界面陷阱
%K R-G电流
%K 栅控二极管
%K MOSFET/SOI
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=C49A7C238CD7FBBB&yid=14E7EF987E4155E6&vid=BC12EA701C895178&iid=5D311CA918CA9A03&sid=158793AD8125C377&eid=6D947E6CDDEFFBDE&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=7