%0 Journal Article
%T 低压化学蒸汽淀积的三维计算机模拟
%A 王季陶
%A 张世理
%A 王焕杰
%A 连美华
%J 半导体学报
%D 1984
%I 
%X 本文在一维LPCVD计算机模拟算式的基础上,考虑到反应管中,径向浓度不均匀的影响,进一步提出三维LPCVD计算机模拟算式,以便同时解决片内和片间均匀性问题.在形式上,整个三维模拟算式可以分解为片内和片间两个独立的部分,但二者是相互影响的.计算结果同一些实验结果具有相同的结论.在三维LPCVD计算机模拟的指导下,我们在研制LPCVD工艺和设备中取得了片内、片间均匀性和批间重复性都极为良好的结果.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=3C1F1E3621859F2E&yid=36250D1D6BDC99BD&vid=94C357A881DFC066&iid=B31275AF3241DB2D&sid=BA3451F2C9E4FB70&eid=039DCCB9394D9766&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=2&reference_num=0