%0 Journal Article
%T 一神光掩模缺陷检查技术
%A 傅丽珍
%A 王家楫
%J 半导体学报
%D 1983
%I 
%X 这里介绍的光掩模缺陷检查技术(MDI)是应用了方向性空间滤波原理,其检查速度比常规显微镜的快2-3倍,可检测的最小缺陷约为3μm.这种检查技术操作简便,为实现光掩模缺陷的自动检测打下了基础.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=D4FDCBA770E45CB34D8B7EA9F2E0C1C2&yid=A7F20A391020FDEE&vid=E158A972A605785F&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=869807E2D7BED9EC&eid=08805F9252973BA4&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0