%0 Journal Article
%T α-Al_2O_3-Si界面电子结构的研究
%A 沈清
%A 林理彬
%J 半导体学报
%D 1986
%I 
%X 本文用DV-SCC-X_a方法计算了α-Al_2O_3晶体及Si界面的电子结构,给出了对真实界面的模拟计算方法,讨论了界面模型和计算结果,得出了与实验相符的Al_2O_3-Si界面的定量结果,如电导率、能隙、态密度等.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=CA8D09A48950ED7D&yid=4E65715CCF57055A&vid=DF92D298D3FF1E6E&iid=38B194292C032A66&sid=FBA00558C57D9C11&eid=82722E2B785EBF0D&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0