%0 Journal Article
%T 第二届《全国集成电路和硅材料学术年会》
%A 冯应章
%J 半导体学报
%D 1982
%I 
%X <正> 由中国电子学会半导体与集成技术学会和电子材料学学会联合主办的第二届《全国集成电路和硅材料学术年会》已于一九八一年十二月十二日至十七日在广州召开.出席会议的代表有370名. 年会收到学术论文报告330篇,其中263篇分别在硅材料质量研究、硅材料物理及测试,双极电路、MOS电路、集成电路工艺、CAD测试与专用设备、工艺监控与理论分析、CVD和激光退火等8个分会上进行了交流,王守武、林兰英、王守觉、黄敞在大会上分别作了题为《介绍国外大规模和超大规模集成
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=935B8073B4A0C39CE6A3BC90B58A5CBE&yid=3F3D540C9B7906DE&vid=38B194292C032A66&iid=38B194292C032A66&sid=627456E7977439A4&eid=627456E7977439A4&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0