%0 Journal Article
%T 掺杂(硼和磷)a-Si_(1-x)C_x:H膜中氢含量的测量
%A 陈光华
%A 张仿清
%A 徐希翔
%A 清水立生
%J 半导体学报
%D 1986
%I 
%X 本工作用IR法研究了a·Si_(1-x)Cx:H(x～0.2)膜中掺杂(B和P)对H键合特性的影响,并对样品含H量作了定量分析.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=757EA2633D7AC399&yid=4E65715CCF57055A&vid=DF92D298D3FF1E6E&iid=94C357A881DFC066&sid=92DA076AF6760FAC&eid=8C044EC256B1039D&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0