%0 Journal Article
%T 电子束蒸镀Y_2O_3-ZrO_2减反射膜用于1.3μm半导体激光器
%A 王浙辉
%A 林理彬
%A 卢铁城
%J 半导体学报
%D 1999
%I 
%X 用ＤＭＰ４５０型电子束镀膜机，制备了Ｙ２Ｏ３ＺｒＯ２膜，并将它用作１．３μｍ半导体激光器的减反射膜．测试结果表明，镀膜后的半导体激光器其外微分子量效率明显提高，线性化也有改善．对于减反程度很高的管子，出现了超辐射现象．本文对这些现象及有关机理进行了讨论．
%K 半导体激光器
%K 电子束蒸镀
%K Y2O3－ZrO2
%K 减反射模
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=CFD73B97AF50F0AC54A0A4D696B76B8A&yid=B914830F5B1D1078&vid=A04140E723CB732E&iid=708DD6B15D2464E8&sid=E151839C3C081609&eid=816AB2919A4FEDD7&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=1&reference_num=12