%0 Journal Article
%T 一种新颖的无显影光刻技术
%A 裴荣祥
%A 洪啸吟
%A 韩阶平
%A 金维新
%J 半导体学报
%D 1980
%I 
%X 光刻技术是制造半导体器件的重要工艺之一,自六十年代初,在半导体工业得到运用以来,大大促进了半导体器件和集成电路的发展,至今仍占有重要地位.随着半导体器件向更高频率和大规模集成的方向发展,要求器件的尺寸越来越小,
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=0C30092978C7267909AA0C05A6BF7F85&yid=E56875464B1C0EC1&vid=CA4FD0336C81A37A&iid=0B39A22176CE99FB&sid=F1177A9DF1349B63&eid=F1177A9DF1349B63&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=2&reference_num=0