%0 Journal Article
%T 多晶硅薄膜干氧氧化特性的研究
%A 张爱珍
%A 王阳元
%J 半导体学报
%D 1985
%I 
%X 本文在800—1200℃的温度范围内,对LPCVD生长的未掺杂和重磷掺杂的多晶硅薄膜进行了干氧氧化特性的系统研究,并与轻掺杂和重磷掺杂的单晶硅的热氧化规律进行了比较.发现在900℃以下时,未掺杂多晶硅氧化规律不能完全用Deal-Grove模型描述,并存在着一个快速氧化的特征阶段.在这个阶段中多晶硅氧化速率比<111>单晶快,而重磷掺杂多晶硅却相反.掺杂、未掺杂,单晶、多晶间氧化规律的差异,在T=1200℃时,全部消失.本文讨论了产生上述现象的物理机理.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=8A63D9854C19AB6FF926D11E65EFF121&yid=74E41645C164CD61&vid=B31275AF3241DB2D&iid=0B39A22176CE99FB&sid=2DBBF45CC176713E&eid=4C100B7696CE9E24&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0