%0 Journal Article
%T 程序控制液相外延炉
%A 邹志膺
%A 萨支天
%A 邹美琪
%A 张庆汉
%A 金奉善
%J 半导体学报
%D 1983
%I 
%X 本文介绍用于Ⅲ-Ⅴ族半导体液相外延工艺的新炉子、它的主要设计思想和所达到的指标(温度稳定度优于 ±0.03℃/24h,±0.01℃/2h;等温区均匀度优于±0.025℃/400mm;最小降温速率0.05℃/min).它采用高温铂电阻温度计作为温度的测量和反馈元件;在炉膛中央放置一根以钠为工作介质的同轴热管作为均热元件;详细地介绍了三段控制系统的控制器和可编程序的精密定值器.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=E64F05DC707B357D7DD9D5C4495876EA&yid=A7F20A391020FDEE&vid=E158A972A605785F&iid=94C357A881DFC066&sid=D8B37A0210DB6B9D&eid=ABF2590617D31FFD&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0