%0 Journal Article
%T 扫描电子束无显影光刻技术,
%A 孙毓平
%A 韩阶平
%A 梁俊厚
%A 葛璜
%A 梁久春
%J 半导体学报
%D 1980
%I 
%X <正> 扫描电子束曝光是微细图形加工中的一项核心技术.它既是远紫外、X-射线、投影电子束光刻制备微米、亚微米精细掩模的主要手段,也是在硅片上直接加工微细图形的重要光刻技术之一,并且具有高分辨率、高精度和自动化等优点.但是电子束光刻过程,
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=CCB7C596DD68669D710CEEF6E9E8D5AC&yid=E56875464B1C0EC1&vid=CA4FD0336C81A37A&iid=E158A972A605785F&sid=B66C5792F4740920&eid=50EA2A80A7D254EF&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0