%0 Journal Article
%T 各种光致抗蚀剂的无显影刻蚀特性,
%A 无显影光刻协作组
%J 半导体学报
%D 1980
%I 
%X <正> 继A抗蚀剂成功地实现无显影光刻之后,为了进一步扩大该技术的实用范围,并了解其它光刻胶是否同样存在这种效应,我们对不同的光刻胶(包括正性胶和负性胶)进行了研究.通过大量实验发现,在一定条件下它们都具有无显影刻蚀效应.有趣的是负性胶
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=B00A6FDA7529C2D2C36D8EFBDD14D3BB&yid=E56875464B1C0EC1&vid=CA4FD0336C81A37A&iid=E158A972A605785F&sid=CF6CB42CFF3D4C4E&eid=9DC563A0FEFC04F9&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0