%0 Journal Article
%T The Characters and Mechanism of Photooxidation Tolerance in Leaves of Peiai64S/E32, a Super High-yielding Hybrid Rice (Oryza sativa L.)<br>超高产水稻组合‘培矮64S/E32’的耐光氧化特性及其机理
%A 欧志英
%A 彭长连林桂珠
%A 温学
%J 植物学报
%D 2003
%I 
%X 甲基紫精（MV）介导的光氧化导致两个水稻品种‘汕优63’(目前我国大面积推广的杂交水稻)和‘培矮64S/E32’（新培育的超高产杂交水稻）细胞电解质渗漏率都增加，前者增加的量大于后者，显示‘培矮64S/E32’的细胞膜系统受光氧化的伤害小。光氧化条件下，‘培矮64S/E32’仍能维持较高的光合放氧能力（Amax、Φi）、PSⅡ活性（Fv/Fm、ΦPSⅡ）和叶绿素荧光猝灭系数（qP、NPQ），而且光氧化引起‘培矮64S/E32’这些参数的下降幅度也小。另外，光氧化导致了两个水稻品种抗氧化酶SOD和APX活性增加，‘培矮64S/E32’增加的幅度约为‘汕优63’的3倍。结果表明超高产水稻具有更强的耐光氧化能力。
%K <br>超高产水稻
%K 甲基紫精
%K 光氧化
%K 抗氧化酶
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=90BA3D13E7F3BC869AC96FB3DA594E3FE34FBF7B8BC0E591&jid=97AE3D0EBF25E42C466FEF50E492F710&aid=C5C3C74D6C3079F4AF48497CE83F3147&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=A04140E723CB732E&iid=94C357A881DFC066&sid=C7A2B92569DF5458&eid=2497388423811B81&journal_id=1674-3466&journal_name=植物学报&referenced_num=0&reference_num=0