%0 Journal Article
%T Electrodeposition and Characterization of Cu2O Thin Films on Transparent Conducting Glass<br>导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
%A CHEN Zhi-Gang
%A TANG Yi-Wen
%A JIA Zhi-Jie
%A ZHANG Li-Sha
%A LI Jia-Lin
%A YU Ying
%A <br>陈志钢
%A 唐一文
%A 贾志杰
%A 张丽莎
%A 李家麟
%A 余颖
%J 无机材料学报
%D 2005
%I Science Press
%X 研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为，讨论了一些工艺因素对在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响，并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征．得到的较佳工艺条件为：电势-0．22～-0．45V(vs SCE)，温度为60℃，pH值为5．5～6．0，(CH3COO)2Cu浓度为0．015—0．04mol／L．表征结果发现，随池温的升高，晶粒尺寸从0.2μm增加到0．4μm，60。C沉积的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向，Cu2O膜纯度高，薄膜表面呈网络多孔结构
%K cuprous oxide
%K electrodeposition
%K film
%K characterization<br>氧化亚铜
%K 电沉积
%K 膜
%K 表征
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=A2C9C35D6AA17300&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=A04140E723CB732E&iid=0B39A22176CE99FB&sid=4C2B9916B58305BE&eid=965F4E89CD0AFC30&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=4&reference_num=9