%0 Journal Article
%T Preparation and Structure of Nano-crystalline WO3(Si) Thin Films by Pulsed Excimer Laser Deposition<br>WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析
%A FANG Guo-Jia
%A LIU Zu-Li
%A YAO Kai-Lun
%A <br>方国家
%A 刘祖黎
%A 姚凯伦
%J 无机材料学报
%D 2002
%I Science Press
%X 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜，采用X射线衍射（XRD）、喇曼光谱（RS），付里叶红外光谱（FT－IR）及透射电镜扫描附件（STEM）对不同条件下沉积的样品进行了结构分析，结果表明，氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数，在沉积温度300℃以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜。
%K WO3 thin films
%K nano-crystalline
%K PLD technique
%K structural analyses
%K preparation conditions
%K Si (111)<br>三氧化钨薄膜
%K 纳米晶
%K 脉冲准分子激光沉积
%K PLD
%K 结构分析
%K Si（111）衬底
%K 性能
%K WO3薄膜
%K 电致变色材料
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=83656EF631F547A4&yid=C3ACC247184A22C1&vid=BCA2697F357F2001&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=12DC19455C3A2FA8&eid=3986B25773CB6C30&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=15