%0 Journal Article
%T Al2O3 Films Deposited by Plasma Source Enhanced Magnetron Sputtering
等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究
%A LEI Ming-Kai
%A YUAN Li-Jiang
%A ZHANG Zhong-Lin
%A
雷明凯
%A 袁力江
%A 张仲麟
%J 无机材料学报
%D 2002
%I Science Press
%X 采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜。X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜。薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当。
%K aluminium oxide film
%K plasma source
%K magnetron sputtering
%K refractive index
等离子体源
%K 磁控溅射沉积
%K Al2O3薄膜
%K 氧化铝薄膜
%K 折射率
%K 结构
%K 光学性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=EAA7134F37AEF5E5&yid=C3ACC247184A22C1&vid=BCA2697F357F2001&iid=E158A972A605785F&sid=3E851F4852A9516C&eid=38DB5AF4AD8FDCCA&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=12