%0 Journal Article %T Al2O3 Films Deposited by Plasma Source Enhanced Magnetron Sputtering
等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究 %A LEI Ming-Kai %A YUAN Li-Jiang %A ZHANG Zhong-Lin %A
雷明凯 %A 袁力江 %A 张仲麟 %J 无机材料学报 %D 2002 %I Science Press %X 采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜。X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜。薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当。 %K aluminium oxide film %K plasma source %K magnetron sputtering %K refractive index
等离子体源 %K 磁控溅射沉积 %K Al2O3薄膜 %K 氧化铝薄膜 %K 折射率 %K 结构 %K 光学性能 %U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=EAA7134F37AEF5E5&yid=C3ACC247184A22C1&vid=BCA2697F357F2001&iid=E158A972A605785F&sid=3E851F4852A9516C&eid=38DB5AF4AD8FDCCA&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=12