%0 Journal Article
%T Electrochromic Properties of Niobium Oxide Thin Films Fabricated byRF Sputtering<br>射频反应溅射氧化铌薄膜的电致变色性能研究
%A HUANG Yin-Song
%A ZHANG Yu-Zhi
%A HU Xing-Fang
%A <br>黄银松
%A 章俞之
%A 胡行方
%J 无机材料学报
%D 2002
%I Science Press
%X 采用射频反应溅射法成功地制备了非晶态氧化铌薄膜，研究了它们的电致变色性能，这些薄膜在漂白态透明无色，而着色态则为灰褐色，循环伏安测试结果表明该薄膜具有良好的稳定性和很好的锂离子注入／抽出性能，550nm处的着色效率为16.68cm^2/C，在可见光区透过率调制幅度为20％－30％，结合X光电子能谱（XPS）分析可以认为氧化铌薄膜的电致变色现象是由于锂离子和电子的共同注入与抽出，导致薄膜中的铌离子发生Nb^V和Nb^IV间的可逆氧化，还原反应引起的。
%K iobium oxide
%K RF sputtering
%K electrochromism<br>氧化铌薄膜
%K 电致变色
%K 射频反应溅射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=F78D999DBB0D1CF4&yid=C3ACC247184A22C1&vid=BCA2697F357F2001&iid=38B194292C032A66&sid=7E2D9DFE40003B3F&eid=9BF3B0483F192149&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=13