%0 Journal Article
%T Preparation of Nanocrystalline TiN Film by Direct Nitridation of TiO2 Film<br>直接氮化法制备纳米晶TiN薄膜
%A JIANG Hong-Bo
%A GAO Lian
%A LI Jing-Guo
%A <br>姜洪波
%A 高濂
%A 李景国
%J 无机材料学报
%D 2003
%I Science Press
%X 首先采用溶胶-凝胶法在Al2O3基体上制备了TiO2纳米晶薄膜，然后在管式气氛炉中，用氨气作为还原剂，直接氮化制备TiO2纳米晶薄膜；从而成功地的α-Al2O3陶瓷基片上制备了纳米晶TiN薄膜。利用XRD、XPS、FE-SEM等分析技术，研究了制备的纳米晶TiN薄膜的相组成及形貌。结果表明最佳工艺条件为：氮化温度为700℃，氮化时间为1h。
%K direct nitridation
%K nanocrystalline TiN film
%K Ti0_2 film<br>直接氮化法
%K 纳米晶TiN薄膜
%K TiO2薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=2D7E8AE34967A6EC&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=13553B2D12F347E8&iid=0B39A22176CE99FB&sid=DDDA4F26E8AD3C0E&eid=A03A15CF5604A8B0&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=7