%0 Journal Article
%T B-C-N Films Synthesized by Plasma Source Ion Nitriding<br>等离子体源离子渗氮合成硼碳氮薄膜的研究
%A LEI Ming-Kai
%A YUAN Li-Jiang
%A ZHANG Zhong-Lin
%A MA Teng-Cai
%A <br>雷明凯
%A 袁力
%A 张仲麟
%A 马腾才
%J 无机材料学报
%D 1999
%I Science Press
%X 采用等离子体源离子渗氮，即低能，超大剂量氮离子注入－同步热扩散技术，在３００－５００℃处理碳化硼薄膜，合成了硼碳酸三元薄膜。俄歇电子能谱和漫反射富氏变换红外光谱分析表明，合成的硼碳氮薄膜是碳硼比固定，氮含量可控的非晶态薄膜。
%K plasma source ion nitriding
%K boron-carbon-nitrogen film<br>等离子体源
%K 离子渗氮
%K 硼碳氮薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=4556165313DC4EE8&yid=B914830F5B1D1078&vid=F3583C8E78166B9E&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=3A0155B37D8FF829&eid=C29816B2656377A7&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=1&reference_num=13