%0 Journal Article
%T Preparation of b-axis Oriented BaTi2O5 Thin Films by Pulsed Laser Deposition<br>脉冲激光沉积b轴取向BaTi2O5薄膜的研究
%A WANG Chuan-Bin
%A TU Rong
%A GOTO Takashi
%A SHEN Qiang
%A ZHANG Lian-Meng
%A <br>王传彬
%A 涂溶
%A 後藤孝
%A 沈强
%A 张联盟
%J 无机材料学报
%D 2008
%I Science Press
%X 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条件为Tsub=700℃和Po2=12.5Pa.在该条件下,BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向,薄膜表面平整光滑,结晶良好,晶粒呈棒状交叉分布,结合紧密.
%K BaTi2O5 thin film
%K b-axis orientation
%K substrate temperature
%K oxygen partial pressure<br>BaTi2O5薄膜
%K b轴取向
%K 基片温度
%K 氧分压
%K 脉冲激光沉积
%K 取向生长
%K 薄膜表面
%K 研究
%K Pulsed
%K Laser
%K Deposition
%K Thin
%K Films
%K Oriented
%K 结合
%K 分布
%K 晶粒
%K 表现
%K 沉积条件
%K 最佳
%K 变化
%K 取向性
%K 结果
%K 影响
%K 薄膜结构
%K 沉积工艺
%K 氧分压
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=DA2D884D328D5FDD667D903DEC5FA66B&yid=67289AFF6305E306&vid=EA389574707BDED3&iid=38B194292C032A66&sid=4AB4178709047BE3&eid=CF0706A3E35031F6&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=22