%0 Journal Article
%T Li-doped ZnO Ceramic Target Preparation and RF Magnetron Sputtering ZnO Films<br>ZnO陶瓷靶制备及其薄膜 RF溅射工艺研究
%A CHEN Zhu
%A ZHANG Shu-Ren
%A DU Shan-Yi
%A YANG Cheng-Tao
%A ZENG Ze-Yu
%A LI Bo
%A SUN Ming-Xia
%A <br>陈祝
%J 无机材料学报
%D 2006
%I Science Press
%X 利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10-15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2．2mol％,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并采用所制备的ZnO-Li2.2％陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)／Ti／SiO2／Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜,其绝缘电阻率ρ为4．12×108Ω·cm,达到了声表面波器件(SAW)的使用要求．
%K ceramic target
%K zinc oxide films
%K RF magnetron sputtering
%K preferred orientation<br>陶瓷靶
%K 氧化锌薄膜
%K 射频磁控溅射
%K 择优取向
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=0EA0645B1281CFF6&yid=37904DC365DD7266&vid=659D3B06EBF534A7&iid=E158A972A605785F&sid=BCE65990EF9348F5&eid=5E7C14876566242F&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=0&reference_num=9