%0 Journal Article
%T Deposition of Polycrystalline ZnO Thin Films by Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction Process (SILAR)<br>连续离子层吸附与反应法(SILAR)生长ZnO多晶薄膜的研究
%A GAO Xiang-Dong
%A LI Xiao-Min
%A YU Wei-Dong
%A <br>高相东
%A 李效民
%A 于伟东
%J 无机材料学报
%D 2004
%I Science Press
%X 采用连续离子层吸附与反应法(SILAR),以锌氨络离子(Zn(NH_3)_4]~(2+))为前驱体溶液,在玻璃衬底上沉积了ZnO薄膜,以XRD和SEM等手段分析了薄膜的晶体结构和表面、断面形貌,考察了空气气氛下的退火过程对ZnO薄膜晶体结构与微观形貌的影响,并初步探讨了以SILAR方法沉积ZnO薄膜的机理.结果表明,经200次SILAR沉积循环,所得ZnO薄膜为红锌矿结构的多晶薄膜,沿<002>方向择优生长;薄膜表面致密、光滑均匀,厚度约800nm.退火处理使ZnO薄膜氧缺位减少,晶粒沿c轴取向增强;随退火温度升高,锌间隙原子增加;500℃退火时,ZnO薄膜发生再结晶.减小前驱体溶液的NH_3·H_2O]/Zn~(2+)]比率可提高ZnO薄膜生长速率.
%K ZnO
%K thin films
%K successive ionic layer adsorption and reaction process (SILAR)<br>ZnO
%K 薄膜
%K 连续离子层吸附与反应方法（SILAR）
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=CA1C721C0DFDCCFA&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=2A8D03AD8076A2E3&iid=38B194292C032A66&sid=44E78A5D1B37D836&eid=984BD2F4D19B9D1C&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=1&reference_num=13