%0 Journal Article
%T Studies on Electroplating CoNiMnP Permanent iFilm Arrays<br>电镀法制备CoNiMnP永磁薄膜阵列的研究
%A JIANG Hong-Chuan
%A ZHANG Jin-Ping
%A ZHANG Wan-Li
%A ZHANG Wen-Xu
%A PENG Bin
%A YANG Shi-Qing
%A <br>蒋洪川
%A 张金平
%A 张万里
%A 张文旭
%A 彭斌
%A 杨仕清
%J 无机材料学报
%D 2003
%I Science Press
%X 采用光刻和电镀技术在5mm×5mm×0.2mm的硅片上设计并制备了2000个大小为50μm×50μm的CoNiMnP垂直各向异性永磁薄膜阵列,并对该薄膜陈列的组成、磁性能等进行了分析与测试.结果表明:薄膜阵列的组成为:Co90.32wt％、Ni7.83wt％、Mn0.74wt％、P1.11wt％,阵列垂直方向磁性能为:Hc=59.7kA/m,Br=0.53T,(BH)max=11.3kJ/m3;阵列水平方向磁性能为:Hc=27.8kA/m,Br=53715T,(BH)max=1.585kJ/m3.
%K CoNiMnP permanent film arrays
%K electroplating
%K vertical anisotropy<br>CoNiMnP
%K 永磁薄膜阵列
%K 电镀
%K 垂直各向异性
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=ABC0063016AF57E1C73EF43C8D2212BD&aid=FAFB1896EE9DE04D&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=13553B2D12F347E8&iid=94C357A881DFC066&sid=CF89D3C02791C82E&eid=D542ADE6529F4059&journal_id=1000-324X&journal_name=无机材料学报&referenced_num=2&reference_num=5