%0 Journal Article
%T Frictional properties of fluorinated diamond-like carbon films prepared by radio frequency reactive magnetron sputtering<br>射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究
%A Wang Pei-Jun
%A Jiang Mei-Fu
%A Du Ji-Long
%A Dai Yong-Feng
%A <br>王培君
%A 江美福
%A 杜记龙
%A 戴永丰
%J 物理学报
%D 2010
%I 
%X 以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具体分析.表面形貌测试结果表明,制备的薄膜整体均匀致密,表现出了良好的减摩性能.当CHF3与Ar气流量比r为1 ∶6时,所得薄膜的摩擦系数减小至0.42,而纳米压痕结果显示,此时薄膜的硬度也最高.拉曼和红外光谱显示,随着r的增加,薄膜中的F浓度呈上升趋势,薄膜中的芳香环比例减小.研究表明,F原子的键入方式是影响F-DLC薄膜摩擦系数的一个重要因素,CF2反对称伸缩振动强度的减弱和C C中适量碳氢氟键的形成都能导致薄膜具有相对较低的摩擦系数.
%K frictional properties
%K radio frequency reactive magnetron sputtering
%K fluorinated diamond-like carbon films<br>摩擦性能
%K 射频反应磁控溅射
%K 氟化类金刚石薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=8F626A478F16517B34358475378ECBA4&yid=140ECF96957D60B2&vid=6AC2A205FBB0EF23&iid=59906B3B2830C2C5&sid=4BD94884154E9ABB&eid=B3D6686B182C3EC2&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=18