%0 Journal Article
%T Monoclinic phase of erbium oxide coatings fabricated by pulsed magnetron sputtering<br>脉冲磁控溅射法制备单斜相氧化铒涂层
%A Li Xin-Lian
%A Wu Ping
%A Qiu Hong
%A Chen Sen
%A Song Bin-Bin
%A <br>李新连
%A 吴平
%A 邱宏
%A 陈森
%A 宋斌斌
%J 物理学报
%D 2011
%I 
%X 用中频脉冲反应磁控溅射法,在溅射功率为78W,93W和124W以及衬底温度分别为室温,500℃及677℃下制备了氧化铒涂层.采用原子力显微镜、纳米压痕、X射线衍射和掠入射X射线衍射法研究了涂层的形貌、力学性能及物相结构.测量了涂层的电学性能.结果显示,脉冲磁控溅射沉积氧化铒涂层具有较高的沉积速率.实验制备得到了单斜相结构的氧化铒涂层.提高溅射功率时,沉积速率从28nm/min增大至68nm/min,涂层的结晶质量显著下降.提高衬底温度至500℃和677℃时,单斜相衍射峰强度下降.分析认为,较低的衬底温度和较高沉积速率有利于氧化铒涂层形成单斜相结构.涂层的硬度和弹性模量分别为11.9—15.7GPa和179—225GPa.室温至677℃制备的涂层均具有较高的电阻率,为(1.5—3.1)×1012Ω·cm,满足聚变堆包层绝缘涂层的应用要求.
%K erbium oxide
%K pulsed magnetron sputtering
%K monoclinic phase<br>氧化铒
%K 脉冲磁控溅射
%K 单斜晶相
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=B3378C03A632DD2059D2F6161D174846&yid=9377ED8094509821&vid=BFE7933E5EEA150D&iid=38B194292C032A66&sid=FB9C1D0D62DA4573&eid=323E8A365B085E0B&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=23