%0 Journal Article
%T Design and fabrication of hard X-ray phase grating<br>硬X射线相位光栅的设计与研制
%A Liu Xin
%A Lei Yao-Hu
%A Zhao Zhi-Gang
%A Guo Jin-Chuan
%A Niu Han-Ben
%A <br>刘鑫
%A 雷耀虎
%A 赵志刚
%A 郭金川
%A 牛憨笨
%J 物理学报
%D 2010
%I 
%X 针对在普通实验室和医院实现40—100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40—70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.
%K x-ray
%K phase contrast imaging
%K phase grating
%K silicon etching
%K photon-aided electrochemical etching<br>X射线
%K 相衬成像
%K 相位光栅
%K 硅刻蚀
%K 光助电化学刻蚀
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=19D93CED4A9F2A3CDD7990D119141918&yid=140ECF96957D60B2&vid=6AC2A205FBB0EF23&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=B9BA718905D1E6EA&eid=F9B9BC550B941025&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=17