%0 Journal Article
%T Design and preparation of black-nickel film on the radiometer chip<br>辐射探测芯片吸收膜理论设计及镍磷黑膜制备
%A Li Ya-Nan
%A Liang Zhong-Zhu
%A Liang Jing-Qiu
%A Zheng N
%A Fang Wei
%A Wang Wei-Biao
%A Yu Bing-Xi
%A <br>李亚楠
%A 梁中翥
%A 梁静秋
%A 郑娜
%A 方伟
%A 王维彪
%A 禹秉熙
%J 物理学报
%D 2010
%I 
%X 对新型条形辐射探测芯片的吸收膜层进行了理论分析,并且在金刚石材质的探测芯片上采用电镀方法制备了镍磷黑吸收膜.辐射探测芯片的膜层吸收分析表明,芯片吸收膜层的吸收率正比于表面粗糙度.通过对辐射吸收膜层设计与制作工艺的研究,制备出一种用于条形辐射探测芯片的镍磷黑吸收膜,通过测量其表面形貌结构,表明该膜层具有50 nm—1.5 μm范围的微结构;红外吸收测试表明其吸收率在1.4—8 μm波段为0.989以上,从而提高了辐射探测芯片的性能.
%K radiometer
%K absorbing film
%K black-nickel film
%K diamond<br>绝对辐射计
%K 吸收膜
%K 镍磷黑膜
%K 金刚石
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=5D5C4D12ADBEF89CE679D3A90B4A192B&yid=140ECF96957D60B2&vid=6AC2A205FBB0EF23&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=F652AD4967D48DCC&eid=2CE376C676655C19&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=21