%0 Journal Article
%T 动力学研究AlN/α-Al2Ｏ3（0001）薄膜生长初期的吸附与扩散
%A 杨春
%A 冯玉芳
%A 余毅
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 采用基于第一性原理的从头计算分子动力学方法，计算了300—800℃下AlN吸附过程与系统能量、动力学轨迹以及扩散系数.研究表明，吸附过程由物理吸附、化学吸附和表面稳定态三个阶段组成，在吸附成键过程中，温度越高，粒子平均表面扩散能力增强.N原子的扩散系数大于Al原子的扩散系数，尤其是在物理吸附阶段.在较高温度条件下（大于700℃），N的解吸附作用明显增强，不利于AlN的稳定吸附生长，500—700℃之间的温度有利于AlN在α-Al2Ｏ3（0001）表面的稳定吸附生
%K α-Al2Ｏ3（0001）表面，
%K 扩散，
%K 吸附生长，
%K 从头计算分子动力学
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=22695B4F3BFABD0FE2351435E4A5D5C0&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=94C357A881DFC066&sid=D672354CC1D5E92F&eid=5B7B6F2EA9F59B93&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0