%0 Journal Article
%T Hydrophobic nature of fluorinated diamond-like carbon films prepared under different radio-frequency power<br>不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究
%A Zhu Li
%A Jiang Mei-Fu
%A Ning Zhao-Yuan
%A Du Ji-Long
%A Wang Pei-Jun
%A <br>朱丽
%A 江美福
%A 宁兆元
%A 杜记龙
%A 王培君
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 以高纯石墨作靶、氩气（Ar）和三氟甲烷（CHF3）为源气体，用反应磁控溅射法在不同射频功率下制备了氟化类金刚石碳（F-DLC）膜，并对其疏水性进行研究.双蒸水液滴与膜表面接触角的测试结果表明，所制备薄膜表面的最大水接触角可达115°左右.通过原子力显微镜获得的薄膜表面AFM图谱、拉曼光谱以及傅里叶变换红外光谱探讨了影响薄膜的疏水性的因素.结果表明，薄膜的疏水性与薄膜的表面粗糙度和表面键结构直接相关，表面粗糙度越大，疏水性越好，但与薄膜中的F含量和sp3/sp2的比值并未呈单调增加或减小的对应关系.射频输入功率影响着薄膜的沉积速率，与薄膜表面粗糙度、薄膜中芳香环单核的比例以及薄膜表面的键结构（F的接入方式）直接相关.
%K 疏水性，
%K 反应磁控溅射，
%K 氟化类金刚石膜，
%K 射频功率
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=A0ABBC713E80C256DD1449EAF0E08EDF&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=34DBD672E93C47F1&eid=E1EEAADED6FAB09A&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=1&reference_num=0