%0 Journal Article
%T Deposition of orthorhombic boron nitride films by plasma-enhanced pulsed laser deposition<br>等离子体增强脉冲激光沉积o-BN薄膜
%A Li Wei-Qing
%A <br>李卫青
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 利用等离子体增强脉冲激光沉积系统在Si（100）基底上沉积出了高质量的o-BN薄膜，利用红外光谱（FTIR）、X射线衍射谱（XRD）和原子力显微镜照片对o-BN薄膜进行了表征.通过红外光谱（FTIR）得到o-BN薄膜的红外峰特征峰值为1189cm-1，1585cm-1和1450cm-1；由XRD谱得到o-BN薄膜的（111），（020），（021），（310）和（243）各晶面的衍射峰, 特别是（310）和（243）晶面的衍射峰非常强；通过原子力显微镜照片清楚看到BN薄膜具有尖状突起的表面形貌.
%K 等离子体增强脉冲激光沉积，
%K 氮化硼薄膜，
%K X射线衍射谱
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=82B9D5F533D0AC71A5253481A4C7E7D2&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=9CF7A0430CBB2DFD&sid=3A01EE2C54618E92&eid=45FE113033955066&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0