%0 Journal Article
%T The effect of nonlinear exposure on bandgap of three-dimensional holographic photonic crystal<br>非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响
%A Ren Xiao-Bin
%A Zhai Tian-Rui
%A Ren Zhi
%A Lin Jing
%A Zhou Jing
%A Liu Da-He
%A <br>任晓斌
%A 翟天瑞
%A 任芝
%A 林晶
%A 周静
%A 刘大禾
%J 物理学报
%D 2009
%I 
%X 从理论和实验两方面研究了非线性曝光对全息方法制作光子晶体的影响.使用低折射率材料（n=152）制作了金刚石结构光子晶体，通过控制曝光量使记录介质工作在非线性曝光区域，发现光子禁带的特性得到了明显的改善.并由此提出了用低折射率材料实现全空间禁带的设想.
%K 光子晶体，
%K 光学全息，
%K 非线性曝光
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=37B6D99C4EE41E8C74D2956D8420DAA5&yid=DE12191FBD62783C&vid=9FFCC7AF50CAEBF7&iid=94C357A881DFC066&sid=BF6AC926CC988675&eid=F70AC240A4ACC178&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=0