%0 Journal Article
%T Effect of sapphire substrate pre-treatment on the growth of ZnO films<br>蓝宝石基片的处理方法对ZnO薄膜生长行为的影响
%A Liu Ming
%A Liu Zhi-Wen
%A Gu Jian-Feng
%A Qin Fu-Wen
%A Ma Chun-Yu
%A Zhang Qing-Yu
%A <br>刘明
%A 刘志文
%A 谷建峰
%A 秦福文
%A 马春雨
%A 张庆瑜
%J 物理学报
%D 2008
%I 
%X 采用反应射频磁控溅射方法，在经过不同方法处理的蓝宝石基片上，在同一条件下沉积了ZnO薄膜.利用原子力显微镜、X射线衍射、反射式高能电子衍射等分析技术，对基片和薄膜的结构、表面形貌进行了系统表征.研究结果显示，不同退火条件下的蓝宝石基片表面结构之间没有本质的差异，均为α-Al2O3 (001)晶面，但基片表面形貌的变化较大.在不同方法处理的蓝宝石基片上生长的ZnO薄膜均具有高c轴取向的织构特征，但薄膜的表面形貌差异较大.基片经真空退火处
%K ZnO film
%K reactive radio-frequency magnetron sputtering
%K substrate pretreatments
%K morphological analysis<br>ZnO薄膜，
%K 反应磁控溅射，
%K 基片处理，
%K 形貌分析
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=83A9B6478A716CE593301237A6EFE41F&yid=67289AFF6305E306&vid=11B4E5CC8CDD3201&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6DAA05ECA4CD5075&eid=D932AD0F8FDA3032&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=26