%0 Journal Article
%T The effect of pressure on growth rate and quality of diamond films prepared by microwave plasma chemical vapor deposition<br>微波化学气相沉积中气压对金刚石薄膜生长速率和质量的影响
%A Li Xiao-Hong
%A Guo Wan-Tu
%A Chen Xue-Kang
%A Wu Gan
%A Yang Jian-Ping
%A Wang Rui
%A Cao Sheng-Zhu
%A Yu Rong
%A <br>李晓红
%A 郭晚土
%A 陈学康
%A 吴 敢
%A 杨建平
%A 王 瑞
%A 曹生珠
%A 余 荣
%J 物理学报
%D 2007
%I 
%X 研究了微波化学气相沉积中沉积气压对金刚石薄膜生长速率和质量的影响.研究表明,金刚石薄膜的生长速率随沉积气压的提高而增大,生长速率与沉积气压为线性关系.在高沉积气压下生长的金刚石薄膜晶形完整,拉曼谱测量可得到锐利的金刚石相的峰,但电压-电流测量表明,随着制备时沉积气压的提高,金刚石薄膜的暗电流增大,膜的电学质量下降.
%K diamond films
%K growth rate
%K deposition pressure<br>金刚石薄膜
%K 生长速率
%K 沉积气压
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=29DF2CB55EF687E7EFA80DFD4B978260&aid=39DF03D7589D56B36B0CD0774AC7D8C1&yid=A732AF04DDA03BB3&vid=014B591DF029732F&iid=59906B3B2830C2C5&sid=8B50F873C5C14E17&eid=1F1112F3D673B806&journal_id=1000-3290&journal_name=物理学报&referenced_num=0&reference_num=8